VEStudio虛擬仿真創(chuàng)作平臺特性:
【全新引擎升級】——
支持DX,更好的兼容性
支持WinXP,Win7操作系統(tǒng)
支持32位、64位的MAX插件
子屬性編輯
自動dds紋理優(yōu)化工具
PS聯(lián)動編輯紋理實時修改
【次世代畫面】——
實時光影、霧效、凹凸、offsetting、反射貼圖、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、鏡面、環(huán)境反射渲染
【組件式場景搭建】——
標準模型、庫模型、粒子模板、材質(zhì)模板
【材質(zhì)系統(tǒng)】——
次世代、水面、混合(支持MAX合成材質(zhì)導出為VES的混合材質(zhì)。)、swf材質(zhì)(場景中視頻如電視畫面、等離子廣告)、玻璃、天空、卡通等
【粒子系統(tǒng)】——
可視化編輯
【物理碰撞】——
碰撞導航、角色漫游導航、人工智能
【全新GUI界面與腳本交互】——
支持Flash格式GUI界面、自定義菜單交互、鼠標交互、界面自動縮放
【主模塊】——
人工智能(Artificial Intelligence)、交互物體、體積云、海洋模塊、海量場景
【場景發(fā)布】——
數(shù)據(jù)安全:
場景加密輸出、版權聲明保護
網(wǎng)頁發(fā)布:
自動更新主程序、場景緩存模式、智能化便捷的發(fā)布模式
【教程指南】——
軟件附帶全新chm幫助文檔、平臺自帶多個可編輯案例場景
VEStudio2.2正式版
繼續(xù)修改了Alpha版以后已知的Bug;
修改提升了陰影的效率;
增加了PS特效;
增加了頂點/紋理動畫及相關腳本函數(shù);
增加了高光貼圖支持;
增加了SketchUp的模型導出插件;
增加了例子[動畫大觀];
支持自定義加載界面。
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